В условиях жёстких санкций и технологической блокады Россия пытается заново построить свою микроэлектронику. Анонс первого отечественного промышленного фотолитографа с разрешением 350 нанометров стал знаковым событием. Но что на самом деле стоит за этим событием? Давайте разберёмся без прикрас.

Ключевая проблема: пропасть, а не разрыв

Десятилетия зависимости от импортного электронного оборудования из Европы, Японии и США аукнулись российской микроэлектронике в полной мере. С 2022 года поставки современных литографов прекратились, обнажив катастрофическое отставание. Пока мир вовсю осваивает 3 нм техпроцессы, в России до недавнего времени не было возможности делать даже то, что было стандартом 20 лет назад.

Проблема не только в том, чтобы догнать, но и в том, чтобы не потерять окончательно целые отрасли — от оборонки до телекоммуникаций. Санкции не оставили выбора: нужно создавать своё, даже если начинать приходится с низкого старта.

350 нм: что это и где это пригодится?

Первый российский фотолитограф — это не аналог машин ASML, а устройство, позволяющее создавать микросхемы по нормам конца 90-х. Его разработали в «Технополисе Москва» вместе с белорусским «Планаром».

Где его применят? Это чипы для:

• Систем управления в промышленности,
• Оборонных комплексов,
• Силовой электроники,
• Различных датчиков и измерительных приборов.

Перспектива: Для массового потребителя, который ждёт мощных процессоров для смартфонов и ноутбуков, это ничего не даст. Но для «закрытия» критических нужд в условиях изоляции — это реально работающий инструмент. Это ниша, где можно обойтись без передовых технологий, но без которой нельзя построить ничего сложного.

Сильные стороны и суровая реальность

Плюсы: Устройство полностью локализовано, использует современный твердотельный лазер вместо устаревших ртутных ламп. Это технологический фундамент, на котором можно учиться и растить собственные кадры.

Минусы (и они серьёзные):

Технологическое отставание: 350 нм — это не просто «немного похуже». Это пропасть в поколениях. О выпуске конкурентной продукции для ИИ, 5G или носимых устройств и компонентов речи не идёт.

Низкая автоматизация: Оборудование, электронные компоненты и все железо требует ручной настройки и операторов. Это убивает серийность и делает производство дорогим и медленным по мировым меркам.

Фотолитограф — это не готовое решение, а учебный полигон и опорная точка. Его ценность не в текущих возможностях, а в том, что он вообще существует и позволяет не стоять на месте.

Зачем это нужно? Точка опоры

Главная задача этого литографа — не завалить мир российскими аналогами микропроцессоров Intel Core, а восстановить разорванную производственную цепочку. Он позволяет производить хоть что-то критически важное в отечественной микроэлектронике, не оглядываясь на импорт. Это плацдарм для подготовки инженеров, развития смежных производств и создания внутренней кооперации.

Перспектива: Заявленный на 2026 год переход на 130 нм — это логичный следующий шаг. Эволюция микроэлектроники, а не революция. Медленное, но целенаправленное движение вперёд по единственно возможному сейчас пути.

Взгляд глобально: Россия против ASML

Чтобы понять масштаб разрыва, достаточно сравнить. К примеру, голландская ASML строит литографы для 2 нм техпроцессов. Это многоэтажные комплексы стоимостью под $150 млн, работающие в условиях сверхчистоты. У России нет ни технологий для такого (EUV-лазеры), ни производственной культуры этого уровня.

Опыт Китая и Индии показывает, что начинать с устаревших стандартов — не приговор. Но догонять придётся долго и очень дорого. Пока же речь идёт не о конкуренции, а о базовом технологическом суверенитете.

«Сделать фотолитограф — это полдела. А что с ним делать дальше?» — мнение эксперта

Идея без сомнения — масштабная, однако создание фотолитографа — это только начало. Нужны собственные проекты микросхем, фотомаски, программное обеспечение. На 350 нм можно создать аналог старого многоядерного процессора, способного работать под лёгким Linux или упрощённой Windows для выполнения базовых офисных задач.

И в целом острой необходимости в этом для гражданского рынка пока нет — его закрывает параллельный импорт и б/у техника. Основной потребитель таких решений — защищённые военные системы.

Главная дилемма: какую архитектуру выбрать? Тащить за собой тяжеленное x86-64 наследство или начинать с чистого листа с отечественными «Байкалами», что потребует переписывания всего ПО? Проблема усугубляется тем, что советские компетенции в этой области были утрачены в 90-е годы, когда свои разработки предпочли забросить в пользу зарубежных.

Резюмируя:
Путь страны к микроэлектронной независимости оказался куда сложнее, чем могло показаться. Создание российского фотолитографа 350 нм — это не технологический прорыв по мировым меркам, но важный шаг в сторону промышленной самостоятельности. Он не решает все проблемы отрасли, не ликвидирует технологический разрыв и не позволяет выпускать продвинутые чипы. Однако это конкретный технологичный результат, который можно масштабировать, улучшать и использовать уже сейчас.